หลักการทำงานของการชุบไอออนอาร์ค cathodic คืออะไร?

ก่อนอื่นเข็มโค้งอาร์ค (ขั้วบวก) ที่มีศักยภาพเชิงบวกอยู่ใกล้กับเป้าหมาย (แคโทด) ที่มีศักยภาพติดลบ เมื่อระยะห่างระหว่างขั้วบวกและแคโทดมีขนาดเล็กพอก๊าซระหว่างขั้วไฟฟ้าทั้งสองจะถูกสลายตัวทำให้เกิดกระแสอาร์คซึ่งคล้ายกับส่วนโค้งที่โดดเด่นของการเชื่อมไฟฟ้า ในเวลานี้ส่วนหนึ่งของ N2 ถูกทำให้เป็นไอออนเพื่อสร้างไอออนไนโตรเจนและอิเล็กตรอน

ไอออนไอออนไนโตรเจนจะบินไปยังแคโทดใกล้กับเป้าหมายและอิเล็กตรอนจะบินไปที่เข็มระเบิดอาร์ค อย่างไรก็ตามมวลของไอออนนั้นยิ่งใหญ่กว่าอิเล็กตรอน ดังนั้นภายใต้แรงไฟฟ้าแบบเดียวกันระยะการเคลื่อนที่ของอิเล็กตรอนจะมากกว่าของไอออนบวก ดังนั้นเมื่ออิเล็กตรอนมาถึงขั้วบวกไอออนจะไม่ถึงเป้าหมายแคโทด แต่จะบินไปที่เข็มจุดไฟโค้งชั้นการสะสมไอออนบวกจะเกิดขึ้นใกล้กับพื้นผิวเป้าหมาย

ระยะห่างระหว่างไอออนบวกและพื้นผิวเป้าหมายแคโทดมีขนาดเล็กมากถึงระดับไมครอน ตาม e = u / d จะเห็นได้ว่าสนามไฟฟ้าในพื้นที่สูงในเวลานี้ซึ่งจะ "ดึง" อิเล็กตรอนออกจากเป้าหมาย อิเล็กตรอน "ดึง" บินจากเป้าหมายแคโทดไปยังชั้นสะสมไอออนบวกซึ่งก่อตัวเป็นกระแส ชั้นสแต็กเชื่อมต่อกับพื้นผิวเป้าหมายและส่วนโค้งถูกสร้างขึ้นใกล้กับพื้นผิวเป้าหมาย

ในเวลาเดียวกันไอออนบวกจะถูกดึงดูดโดยพื้นผิวเป้าหมายแคโทดซึ่งทำให้ไอออนบวกทิ้งระเบิดพื้นผิวเป้าหมายและสร้างสปัตเตอร์ ในขณะที่อนุภาคของฟิล์มระเหยหรือสปัตเตอร์จำเป็นต้องผ่านชั้นการสะสมไอออนบวกและในกระบวนการบินออกจากพื้นผิวเป้าหมายแคโทดอนุภาคฟิล์มจะได้รับผลกระทบจากส่วนโค้งที่พื้นผิวเป้าหมาย

แรงดันอคติเชิงลบมักจะใช้กับชิ้นงานดังนั้นไอออนบวกจะบินไปยังชิ้นงานภายใต้การกระทำของกองกำลังไฟฟ้าและระเบิดชิ้นงานชิ้นงาน ผู้ผลิตเครื่องเคลือบ DLC - การทิ้งระเบิดครั้งนี้จะช่วยปรับปรุงการยึดเกาะของภาพยนตร์และทำให้แรงเสียดทานหนาแน่นซึ่งเป็นประโยชน์อย่างมากในการปรับปรุงคุณภาพของภาพยนตร์

หากคุณต้องการทราบข้อมูลเพิ่มเติมคุณสามารถติดต่อเราได้

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

ซารา

โทรศัพท์: 86-15867869979

อีเมล: [email protected]

WeChat: 15867869979

whatsapp: 86-15867869979