ปัจจัยใดที่จะส่งผลต่อประสิทธิภาพการเคลือบของเครื่องเคลือบสูญญากาศ

ปัจจัยใดที่จะส่งผลต่อประสิทธิภาพการเคลือบของ เครื่องเคลือบสูญญากาศ -

หากเครื่องเคลือบสูญญากาศต้องการเคลือบฟิล์มที่ดีจะต้องตรวจสอบให้แน่ใจว่ามีหลายปัจจัยที่อยู่ในสถานะปกติเช่นการเคลือบสูญญากาศระยะห่างเป้าหมายฐานอุณหภูมิการระเหยอุณหภูมิพื้นผิวความดันก๊าซตกค้างและปัจจัยอื่น ๆ มีการเบี่ยงเบนในปัจจัยหนึ่ง มันจะส่งผลกระทบต่อประสิทธิภาพของชั้นเคลือบของเครื่องเคลือบสูญญากาศ ต่อไปนี้เป็นตัวแก้ไขสูญญากาศเพื่ออธิบายรายละเอียดว่าปัจจัยใดที่จะส่งผลกระทบต่อประสิทธิภาพการเคลือบของเครื่องเคลือบสูญญากาศ ฉันหวังว่ามันจะช่วยคุณได้:

1. อัตราการระเหย

ขนาดของอัตราการระเหยมีอิทธิพลอย่างมากต่อภาพยนตร์ที่ฝาก เนื่องจากโครงสร้างการเคลือบที่เกิดขึ้นจากอัตราการสะสมต่ำนั้นหลวมและง่ายต่อการสะสมอนุภาคขนาดใหญ่เพื่อให้แน่ใจว่ามีความกะทัดรัดของโครงสร้างการเคลือบจึงปลอดภัยมากที่จะเลือกอัตราการระเหยที่สูงขึ้น เมื่อความดันของก๊าซที่เหลืออยู่ในห้องสุญญากาศคงที่อัตราการทิ้งระเบิดของการทิ้งระเบิดพื้นผิวเป็นค่าคงที่ ดังนั้นหลังจากเลือกอัตราการสะสมที่สูงขึ้นก๊าซที่เหลืออยู่ในฟิล์มที่สะสมจะลดลงซึ่งจะช่วยลดปฏิกิริยาทางเคมีระหว่างโมเลกุลก๊าซที่เหลือและอนุภาคของวัสดุฟิล์มระเหย ดังนั้นความบริสุทธิ์ของฟิล์มที่ฝากสามารถปรับปรุงได้ ควรสังเกตว่าหากอัตราการสะสมสูงเกินไปมันอาจเพิ่มความเครียดภายในของฟิล์มส่งผลให้เกิดข้อบกพร่องในชั้นฟิล์มเพิ่มขึ้นและแม้แต่การแตกของชั้นฟิล์มในกรณีที่รุนแรง โดยเฉพาะอย่างยิ่งในกระบวนการของการระเหยปฏิกิริยาสามารถเลือกอัตราการสะสมที่ต่ำกว่าเพื่อให้เกิดปฏิกิริยาก๊าซและอนุภาควัสดุฟิล์มระเหยเพื่อตอบสนองอย่างเพียงพอ แน่นอนว่าควรใช้อัตราการระเหยที่แตกต่างกันสำหรับการระเหยของวัสดุที่แตกต่างกัน เป็นตัวอย่างที่ใช้งานได้จริงว่าอัตราการสะสมต่ำสามารถส่งผลกระทบต่อการแสดงของภาพยนตร์คือการสะสมของฟิล์มสะท้อนแสง ตัวอย่างเช่นเมื่อความหนาของฟิล์มคือ 600x10-8 ซม. และเวลาในการระเหยคือ 3s การสะท้อนกลับคือ 93% อย่างไรก็ตามหากอัตราการระเหยช้าลงภายใต้ความหนาของฟิล์มเดียวกันก็ใช้เวลา 10 นาทีในการสะสมฟิล์มให้เสร็จสมบูรณ์ ในเวลานี้ความหนาของฟิล์มก็เหมือนกัน อย่างไรก็ตามการสะท้อนกลับลดลงเหลือ 68%

2. อุณหภูมิพื้นผิว

อุณหภูมิพื้นผิวยังมีผลกระทบอย่างมากต่อการเคลือบผิวระเหย โมเลกุลก๊าซที่เหลือดูดซับบนพื้นผิวพื้นผิวที่อุณหภูมิพื้นผิวสูงจะถูกลบออกได้ง่าย โดยเฉพาะอย่างยิ่งการยกเว้นโมเลกุลไอน้ำมีความสำคัญมากกว่า ยิ่งไปกว่านั้นมันไม่เพียง แต่ง่ายที่จะส่งเสริมการเปลี่ยนจากการดูดซับทางกายภาพไปสู่การดูดซับทางเคมีที่อุณหภูมิที่สูงขึ้นเท่านั้นซึ่งจะเป็นการเพิ่มแรงที่มีผลผูกพันระหว่างอนุภาค ยิ่งไปกว่านั้นความแตกต่างระหว่างอุณหภูมิการตกผลึกซ้ำของโมเลกุลไอและอุณหภูมิของสารตั้งต้นสามารถลดลงได้ซึ่งจะช่วยลดหรือกำจัดความเครียดภายในบนอินเทอร์เฟซของฟิล์ม-สเตรต นอกจากนี้เนื่องจากอุณหภูมิของสารตั้งต้นเกี่ยวข้องกับสถานะผลึกของฟิล์มการเคลือบ amorphous หรือ microcrystalline มักจะเกิดขึ้นได้ง่ายภายใต้สภาวะความร้อนต่ำหรือไม่มีเลยบนพื้นผิว ในทางกลับกันเมื่ออุณหภูมิสูงขึ้นมันง่ายที่จะสร้างการเคลือบผลึก การเพิ่มอุณหภูมิพื้นผิวยังเป็นประโยชน์ต่อการปรับปรุงคุณสมบัติเชิงกลของการเคลือบ แน่นอนอุณหภูมิพื้นผิวไม่ควรสูงเกินไปเพื่อป้องกันการระเหยของการเคลือบระเหยอีกครั้ง

3. อิทธิพลของแรงดันก๊าซที่เหลืออยู่ในห้องสูญญากาศต่อประสิทธิภาพการทำงานของฟิล์ม

ความดันของก๊าซที่เหลือในห้องสุญญากาศมีอิทธิพลอย่างมากต่อประสิทธิภาพของเมมเบรน หากความดันสูงเกินไปโมเลกุลของก๊าซที่เหลือไม่เพียง แต่จะชนกับอนุภาคระเหยได้ง่ายเพื่อให้พลังงานจลน์ของผู้คนที่ถ่ายภาพบนพื้นผิวจะลดลงซึ่งส่งผลต่อการยึดเกาะของฟิล์ม ยิ่งไปกว่านั้นความดันก๊าซที่เหลืออยู่มากเกินไปจะส่งผลกระทบต่อความบริสุทธิ์ของเมมเบรนอย่างจริงจังและลดประสิทธิภาพของการเคลือบ

4. ผลของอุณหภูมิการระเหยต่อการเคลือบระเหย

ผลกระทบของอุณหภูมิการระเหยต่อประสิทธิภาพของฟิล์มจะแสดงโดยอัตราการระเหยเป็นฟังก์ชันของอุณหภูมิ เมื่ออุณหภูมิของไออยู่ในระดับสูงความร้อนของการระเหยจะลดลง หากวัสดุฟิล์มระเหยไปเหนืออุณหภูมิการระเหยแม้แต่การเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิเล็กน้อยอาจทำให้เกิดการเปลี่ยนแปลงอย่างรวดเร็วในอัตราการระเหยของวัสดุฟิล์ม ดังนั้นจึงเป็นสิ่งสำคัญมากที่จะควบคุมอุณหภูมิการระเหยอย่างแม่นยำในระหว่างการสะสมของฟิล์มเพื่อหลีกเลี่ยงการไล่ระดับอุณหภูมิขนาดใหญ่เมื่อแหล่งกำเนิดระเหยถูกทำให้ร้อน สำหรับวัสดุภาพยนตร์ที่ง่ายต่อการประเสริฐวัสดุภาพยนตร์นั้นถูกเลือกให้เป็นเครื่องทำความร้อนและมาตรการต่าง ๆ เช่นการระเหยก็มีความสำคัญเช่นกัน -

สี่ด้านข้างต้นเป็นปัจจัยทั่วไปที่มีผลต่อประสิทธิภาพของชั้นการเคลือบของเครื่องเคลือบสูญญากาศและพวกเขายังเป็นปัจจัยที่มีอิทธิพลตามปกติ ในระหว่างกระบวนการเคลือบของเครื่องเคลือบสูญญากาศมีความจำเป็นเพื่อให้แน่ใจว่าปัจจัยเหล่านี้อยู่ในสถานะปกติ