วัสดุเป้าหมายการเคลือบ PVD ทั่วไปคืออะไร?- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

วัสดุเป้าหมายการเคลือบ PVD ทั่วไปคืออะไร?

วัสดุการเคลือบที่จะถูกสปัตเตอร์หรือไอเป็นที่รู้จักกันว่าเป็น "เป้าหมาย" หรือ "แหล่งข้อมูล" มีวัสดุหลายร้อยชนิดที่ใช้กันทั่วไปใน PVD ซัพพลายเออร์เครื่องเคลือบสูญญากาศระเหย - ทั้งนี้ขึ้นอยู่กับว่าผลิตภัณฑ์สุดท้ายคือวัสดุมีตั้งแต่โลหะโลหะผสมเซรามิกส์องค์ประกอบและอะไรก็ได้จากตารางธาตุ

กระบวนการบางอย่างต้องการการเคลือบที่ไม่ซ้ำกันเช่นคาร์ไบด์ไนไตรด์ซิลิไซด์และบอร์ไรด์สำหรับแอปพลิเคชันพิเศษ แต่ละคนมีคุณสมบัติพิเศษที่เหมาะกับข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพที่เฉพาะเจาะจง ตัวอย่างเช่นกราไฟท์และไทเทเนียมมักใช้ในการบินและอวกาศที่มีประสิทธิภาพสูงและส่วนประกอบยานยนต์ที่แรงเสียดทานและอุณหภูมิเป็นปัจจัยความสำเร็จที่สำคัญ

เพื่อให้ได้ความหนาของการเคลือบฟิล์มบาง ๆ ที่สม่ำเสมอซึ่งมักจะมีอะตอมหรือโมเลกุลหนาไม่กี่ชิ้นส่วนที่จะเคลือบมักจะถูกหมุนบนแกนหลายแกนด้วยความเร็วสม่ำเสมอหรือวางบนสายพานลำเลียงที่เคลื่อนผ่านกระแสพลาสมาของวัสดุสะสม การเคลือบเดี่ยวหรือหลายชั้นสามารถใช้ในระหว่างรอบการสะสมเดียวกัน

หากคุณต้องการทราบข้อมูลเพิ่มเติมคุณสามารถติดต่อเราได้
Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.
ซารา
โทรศัพท์: 86-15867869979
อีเมล: [email protected]
WeChat: 15867869979
whatsapp: 86-15867869979
www.pvd-coatingmachine.com

แบ่งปัน: