PVD เป็นตัวย่อของ Physical Vapor Deposition หมายถึงการฝึกใช้เทคโนโลยีการปลดปล่อยอาร์กแรงดันต่ำและกระแสสูงเพื่อทำให้วัสดุเป้าหมายกลายเป็นไอและแตกตัวเป็นไอออนทั้งวัสดุที่ระเหยและก๊าซภายใต้สภาวะสุญญากาศ โดยการใช้ความเร่งของสนามไฟฟ้า วัสดุที่ระเหยและผลิตภัณฑ์จากปฏิกิริยาจะเกาะอยู่บนชิ้นงาน
เทคโนโลยี PVD (การสะสมไอทางกายภาพ) ส่วนใหญ่แบ่งออกเป็นสามประเภท: การเคลือบการระเหยด้วยสุญญากาศ การเคลือบสปัตเตอร์สุญญากาศ และการเคลือบไอออนสุญญากาศ ผู้ผลิตเครื่องเคลือบสูญญากาศด้วยแสง
เลขที่ 79 ถนน West Jinniu
หยูเหยา
เมืองหนิงโป จังหวัดเจ้อเจียง ประเทศจีน
+86-13486478562