วัสดุเป้าหมายการเคลือบ PVD ทั่วไปคืออะไร

วัสดุเคลือบที่จะสปัตเตอร์หรือกลายเป็นไอเรียกว่า "เป้าหมาย" หรือ "วัสดุต้นทาง" มีวัสดุหลายร้อยชนิดที่ใช้กันทั่วไปใน PVD เครื่องเคลือบสูญญากาศระเหย ซัพพลายเออร์ . ขึ้นอยู่กับผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้าย วัสดุมีตั้งแต่โลหะ โลหะผสม เซรามิก องค์ประกอบ และอะไรก็ได้จากตารางธาตุ

กระบวนการบางอย่างต้องการการเคลือบพิเศษ เช่น คาร์ไบด์ ไนไตรด์ ซิลิไซด์ และบอไรด์ สำหรับการใช้งานพิเศษ แต่ละรายการมีคุณสมบัติพิเศษที่ปรับให้เข้ากับข้อกำหนดด้านประสิทธิภาพที่เฉพาะเจาะจง ตัวอย่างเช่น กราไฟต์และไททาเนียมมักใช้ในชิ้นส่วนยานยนต์และอวกาศที่มีประสิทธิภาพสูง ซึ่งแรงเสียดทานและอุณหภูมิเป็นปัจจัยความสำเร็จที่สำคัญ

เพื่อให้ได้ความหนาของชั้นเคลือบฟิล์มบางที่สม่ำเสมอซึ่งมักจะมีความหนาไม่กี่อะตอมหรือโมเลกุล ชิ้นส่วนที่จะเคลือบมักจะถูกหมุนหลายแกนด้วยความเร็วเท่ากัน หรือวางบนสายพานลำเลียงที่เคลื่อนผ่านกระแสพลาสมาของวัสดุสะสม สามารถใช้สารเคลือบชั้นเดียวหรือหลายชั้นได้ในระหว่างรอบการทับถมเดียวกัน

หากคุณต้องการทราบข้อมูลเพิ่มเติม คุณสามารถติดต่อเราได้
NINGBO DANKO สูญญากาศ TECHNOLOGY CO.,LTD.
ซาร่า
โทรศัพท์: 86-15867869979
อีเมล: [email protected]
วีแชท :15867869979
WhatsApp:  86-15867869979
www.pvd-coatingmachine.com