เมนูเว็บ

การค้นหาผลิตภัณฑ์

ภาษา

แบ่งปัน

ข่าว

บ้าน / ข่าว / ข่าวอุตสาหกรรม

หมวดหมู่ข่าว

ผลิตภัณฑ์

โพสต์ล่าสุด

  • คำศัพท์สูญญากาศทั่วไป 2

    1.PA Pascal： หน่วยความดันระหว่างประเทศ 1pa = 1n/m2 2. Torr Torr： หน่วยความดัน 1 torr = 1/760 atm ซัพพลายเออร์ระบบเคลือบผิวของจีน PVD บรรยากาศมาตรฐาน ATM： หน่วยความดัน, 1ATM = 101325PA 。...

  • คำศัพท์สูญญากาศทั่วไป 1

    สภาพแวดล้อมมาตรฐาน： อุณหภูมิคือ 20 ℃ความชื้นสัมพัทธ์คือ 65%และความดันบรรยากาศ IS101325PA = 1013.25mbar = 760Torr 。 ซัพพลายเออร์ระบบเคลือบ PVD เงื่อนไขการอ้างอิงมาตรฐานสำหรับก๊าซ： ...

  • พื้นผิวที่เป็นของแข็งถูกโจมตีด้วยอนุภาคที่มีพลัง

    การทับถม หลักการพื้นฐาน พื้นผิวที่เป็นของแข็งถูกโจมตีด้วยอนุภาคที่มีพลัง การสปัตเตอร์ของอะตอมและโมเลกุลบนพื้นผิวที่เป็นของแข็งหลังจากแลกเปลี่ยนพลังงานจลน์กับอนุภาคที่มีพลังที่เกิดขึ้นเรียกว่า...

  • การชุบระเหยสูญญากาศ

    การชุบระเหยสูญญากาศ หลักการพื้นฐาน การเคลือบระเหยสูญญากาศเป็นวิธีการให้ความร้อนวัตถุดิบในการสร้างฟิล์มบาง ๆ ในภาชนะระเหยในห้องสูญญากาศเพื่อให้อะตอมหรือโมเลกุลหนีออกมาจากพื้นผิวและสร้างการไหลข...

  • วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของสูญญากาศทั่วไป

    วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของสูญญากาศทั่วไป การตรวจจับการรั่วไหลของประกายไฟความถี่สูง วิธีนี้ใช้ได้เฉพาะกับ ซัพพลายเออร์เครื่องเคลือบไอออนหลายอาร์คจีน ระบบสูญญากาศแก้ว ร...

  • วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของเครื่องวัดสูญญากาศ

    วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของเครื่องวัดสูญญากาศ การอ่านมาตรวัดสุญญากาศบางตัวเกี่ยวข้องกับประเภทของก๊าซเช่นเทอร์โมคัปเปิลและมาตรวัดสูญญากาศไอออไนเซชัน การเลือกก๊าซหรือของเหลวที่เหมาะสมเป็นวัสดุรั่ว...

  • วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของสูญญากาศทั่วไป

    วิธีการตรวจจับการปิดผนึกโคลนสูญญากาศ โคลนสูญญากาศจะถูกปิดผนึกทีละหนึ่งจุดรั่วไหลที่น่าสงสัยให้ความสนใจกับการเปลี่ยนแปลงระดับสูญญากาศ ถ้าปริญญาสุญญากาศ ซัพพลายเออร์เครื่องเคลือบเครื่องดูดฝุ่น...

  • วิธีการตรวจจับการรั่วไหลของสูญญากาศทั่วไป

    การตรวจจับการรั่วไหลโดยสเปคตรัมมวลฮีเลียม เทคโนโลยีนี้เป็นเทคโนโลยีที่ขาดไม่ได้ในด้านการตรวจจับการรั่วไหลของสูญญากาศ มีการใช้กันอย่างแพร่หลายในการตรวจจับการรั่ว ซัพพลายเออร์ระบบเคลือบผิวของจ...

  • วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

    วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD การชุบไอออนอาร์ค เทคโนโลยี Cathodic ARC ใช้ในการสะสมวัสดุฟิล์มบาง ๆ โดยการทำให้เป็นไอออนวัสดุเป้าหมายในสถานะไอออนิกภายใต้สภาวะสูญญากาศที่มีแรงดันไฟฟ้าต่ำและกระแส...

  • วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

    วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD การสปัตเตอร์ RF (ความถี่วิทยุ) ความถี่ของการสปัตเตอร์ RF อยู่ที่ประมาณ 13.56 MHz ไม่จำเป็นต้องมีแคโทดร้อนและสามารถสปัตเตอร์ที่แรงดันและแรงดันไฟฟ้าต่ำกว่า RF sput...

  • วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

    การทับถม การสปัตเตอร์เป็นเทคนิคการสะสมฟิล์มบางที่เกี่ยวข้องกับการปล่อยก๊าซเรืองแสง มีวิธีการสปัตเตอร์มากมายเช่นการสปัตเตอร์กระแสโดยตรง RF สปัตเตอร์และสปัตเตอร์ปฏิกิริยา Magnetron Sputtering, ควา...

  • รอคอยที่จะได้พบคุณในรัฐคุชราตอินเดีย!

    หลังจากผ่านไปหลายเดือนของการทำงานหนักตัวแทนอินเดียของเราจะต้อนรับเครื่องเคลือบสูญญากาศ Danco สองเครื่อง (เครื่องแพนด้า) พวกเขาจะเริ่มให้บริการในเดือนสิงหาคม ซัพพลายเออร์เครื่องเคลือบพลาสมา ...