คำศัพท์ทั่วไปเกี่ยวกับสุญญากาศ12

1.แม่เหล็กสปัตเตอร์: ด้วยความช่วยเหลือของสนามแม่เหล็กไฟฟ้ามุมฉากที่เกิดขึ้นบนพื้นผิวเป้าหมาย อิเล็กตรอนทุติยภูมิจะถูกผูกไว้กับพื้นที่เฉพาะของพื้นผิวเป้าหมายเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการแตกตัวเป็นไอออน เพิ่มความหนาแน่นของไอออนและพลังงาน จึงบรรลุอัตราการสปัตเตอร์สูง ที่แรงดันไฟต่ำและกระแสไฟสูง
2.PCVD plasma chemistry vapor deposition：วิธีการสร้างฟิล์มบนพื้นผิวที่อุณหภูมิต่ำโดยส่งเสริมปฏิกิริยาเคมีของไอโดยพลาสมาที่เกิดจากการปล่อย
3.HCD โพรงแคโทดปล่อยประจุ: แคโทดกลวงปล่อยลำแสงอิเล็กตรอนจำนวนมากเพื่อระเหยและแตกตัวเป็นไอออนวัสดุเคลือบในเบ้าหลอม ภายใต้แรงดันไบอัสเชิงลบบนซับสเตรต ไอออนจะมีพลังงานขนาดใหญ่และถูกสะสมอยู่บนพื้นผิวของซับสเตรต ประเทศจีน ผู้จัดจำหน่ายเครื่องเคลือบหลายอาร์คไอออน
4.arc ตกสะสม: ด้วยวัสดุเคลือบเป็นเสาเป้าหมายและอุปกรณ์ทริกเกอร์ อาร์คปล่อยจะเกิดขึ้นบนพื้นผิวเป้าหมาย ภายใต้การกระทำของอาร์ค วัสดุเคลือบจะไม่ทำให้เกิดการระเหยของอ่างและเกิดการสะสมบนซับสเตรต
5.เป้าหมาย：พื้นผิวที่ถูกทิ้งระเบิดด้วยอนุภาค
6.ชัตเตอร์：แผ่นกั้นสามารถแก้ไขได้หรือเคลื่อนย้ายได้ ซึ่งใช้เพื่อจำกัดการเคลือบในเวลาและ/หรือพื้นที่ และเพื่อให้เกิดการกระจายความหนาของฟิล์มที่แน่นอน33