คำศัพท์ทั่วไปเกี่ยวกับสุญญากาศ11

1.มุมเคลือบ：มุมระหว่างทิศทางของอนุภาคที่ตกกระทบบนพื้นผิวและปกติของพื้นผิวชุบ
2.vacuum sputtering：ในสุญญากาศ ไอออนก๊าซเฉื่อยทิ้งระเบิดอะตอม (โมเลกุล) หรือกระจุกจากพื้นผิวเป้าหมาย
3.ไอออนบีมสปัตเตอร์：เป้าหมายถูกสปัตเตอร์โดยลำแสงไอออนที่ได้จากแหล่งไอออนพิเศษ
4. การทำความสะอาดการปล่อยเรืองแสง: ตามหลักการของการปลดปล่อยแสงพื้นผิวของพื้นผิวและฟิล์มจะถูกทำความสะอาดโดยการทิ้งระเบิดของก๊าซ ประเทศจีน เครื่องเคลือบสูญญากาศตกแต่ง ซัพพลายเออร์
5.PVD การสะสมไอทางกายภาพ：ในสุญญากาศ วัสดุเคลือบจะถูกทำให้เป็นไอโดยวิธีการทางกายภาพ เช่น การระเหยหรือการสปัตเตอร์ และฝากไว้บนพื้นผิว
6.CVD การสะสมไอเคมี: วิธีการฝากวัสดุฟิล์มใหม่บนพื้นผิวโดยปฏิกิริยาเคมีไอของก๊าซที่ทำปฏิกิริยาด้วยอัตราส่วนทางเคมีบางอย่างภายใต้สภาวะการกระตุ้นเฉพาะ (โดยปกติที่อุณหภูมิสูง)