เครื่องเคลือบเครื่องดูดฝุ่นแมกนีตรอนทำงานอย่างไร- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

เครื่องเคลือบเครื่องดูดฝุ่นแมกนีตรอนทำงานอย่างไร

แมกนีตรอนสปัตเตอร์ เป็นเทคนิคการเคลือบสูญญากาศยอดนิยมที่ใช้ในการสร้างภาพยนตร์ที่ใช้งานได้และตกแต่งสำหรับแอพพลิเคชั่นที่หลากหลาย เทคนิคนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์เช่นในการผลิตส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์เช่นไมโครโปรเซสเซอร์, ชิปหน่วยความจำ, ไมโครคอนโทรลเลอร์และทรานซิสเตอร์

กระบวนการสปัตเตอร์เกี่ยวข้องกับการทิ้งระเบิดของวัสดุเป้าหมายโดย DC แรงดันไฟฟ้าสูงหรือพลังพัลซิ่ง DC, RF หรือ AC กระบวนการนี้ยังต้องใช้ห้องและปั๊มที่มีปริมาณสูงเพื่อให้สภาพแวดล้อมสะอาดที่สุดเท่าที่จะทำได้

ก่อนที่กระบวนการสปัตเตอร์จะเริ่มต้นห้องจะต้องเต็มไปด้วยก๊าซที่เหมาะสมสำหรับกระบวนการ ก๊าซนี้เป็นอาร์กอนโดยทั่วไป แต่สามารถใช้ก๊าซอื่น ๆ เช่นออกซิเจนได้ ประเภทของก๊าซที่ถูกต้องขึ้นอยู่กับวัสดุเฉพาะที่ถูกฝากและคุณสมบัติใดที่จำเป็นสำหรับการเคลือบเพื่อทำหน้าที่ตามที่ตั้งใจไว้

ขึ้นอยู่กับกระบวนการที่คุณกำลังมองหาระบบพลังงานจะแตกต่างกันไป แต่ทั้งหมดมีหลักการหลักเดียวกัน: แรงดันไฟฟ้าสูง DC หรือกระแสไฟฟ้าพัลซิ่ง DC ไหลผ่านแคโทดที่ปืนสปัตเตอร์และวัสดุเป้าหมายนั่ง พลังงานนี้จะต้องเพิ่มขึ้นจากแรงดันไฟฟ้าที่ต่ำกว่าก่อนที่จะเรียกกระบวนการสะสมอย่างเต็มที่

แคโทดเองถูกติดตั้งเหนือพื้นผิวและสามารถเป็นรูปทรงกลมหรือเป็นรูปสี่เหลี่ยมผืนผ้าเพื่อให้เหมาะกับความต้องการแอปพลิเคชันของคุณ การกำหนดค่าแบบกลมดีที่สุดสำหรับระบบพื้นผิวเดียวในขณะที่แคโทดสี่เหลี่ยมนั้นเหมาะสำหรับระบบในบรรทัด

เมื่อกระบวนการสปัตเตอร์เสร็จสมบูรณ์ก็ถึงเวลาที่จะโหลดสารตั้งต้นลงในห้องจัดการหลักและเตรียมการสำหรับการสะสม โดยทั่วไปแล้วจะทำโดยการแนบมันเข้ากับตัวยึดพื้นผิวที่ถือสารตั้งต้นและยึดไว้ในห้อง ผู้ถืออาจมีตัวเลือกในการโหลดสารตั้งต้นเข้าและออกโดยไม่ลดทอนระดับสูญญากาศ

ในระบบสปัตเตอร์ Magnetron จำนวนมากสารตั้งต้นจะถูกโหลดเข้าไปในห้องสะสมผ่านประตูทำให้สามารถเคลื่อนเข้าและออกจากห้องล็อคโหลดได้โดยไม่กระทบต่อสภาพแวดล้อมสูญญากาศ สิ่งนี้จะช่วยป้องกันความเสียหายต่อสารตั้งต้นหรือวัสดุและช่วยให้สามารถเปลี่ยนวัสดุการสะสมได้อย่างรวดเร็ว

เมื่อมีการโหลดพื้นผิวแล้วมันจะถูกวางไว้ในห้องสะสมหลักที่มีปืนสปัตเตอร์ที่มีวัสดุเคลือบที่ต้องการและปืนสปัตเตอร์สำหรับก๊าซที่จะสูบเข้าไปในห้องจะอยู่ เมื่อก๊าซอยู่ในสถานที่สนามแม่เหล็กที่แข็งแกร่งด้านหลังวัสดุเป้าหมายจะสร้างเงื่อนไขสำหรับการสปัตเตอร์ที่จะเกิดขึ้น

ในระหว่างกระบวนการสปัตเตอร์ไอออนที่มีพลังงานสูงประจุออกจากวัสดุเป้าหมายไปยังสารตั้งต้น ไอออนนี้มีความหนาแน่นของไอออนสูงทำให้ค่อนข้างเสถียรในบรรยากาศสปัตเตอร์และทำให้อัตราการสะสมสูง สัณฐานวิทยาของไอออนของวัสดุสปัตเตอร์บนพื้นผิวจะขึ้นอยู่กับปัจจัยหลายประการรวมถึงมุมโพลาไรเซชันของไอออนและพลังงานที่มีผลผูกพันพื้นผิวของไอออน

ความหนาแน่นของไอออนสปัตเตอร์และอัตราสปัตเตอร์ของอะตอมโลหะก็จะได้รับผลกระทบจากความดันที่พลาสมาถูกสร้างขึ้นเช่นความดัน MTORR ซึ่งสามารถอยู่ในช่วงตั้งแต่ 10-3 ถึง 10-2 อัตราการสปัตเตอร์ของวัสดุเช่นฉนวนและวัสดุที่ดำเนินการจะลดลงเนื่องจากศักยภาพไอออนไอออนที่ต่ำกว่าของวัสดุเหล่านี้

เครื่องเคลือบสปัตเตอร์ Magnetron

การเคลือบไอออนและสปัตเตอร์แบบหลายอาร์คสามารถฝากได้ในหลากหลายสี เสียงดังขึ้นสามารถเพิ่มขึ้นได้โดยการแนะนำก๊าซปฏิกิริยาเข้าไปในห้องในระหว่างกระบวนการสะสม ก๊าซปฏิกิริยาที่ใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการเคลือบตกแต่ง ได้แก่ ไนโตรเจน, ออกซิเจน, อาร์กอนหรืออะเซทิลีน การเคลือบตกแต่งจะผลิตในช่วงสีที่แน่นอนขึ้นอยู่กับอัตราส่วนโลหะต่อก๊าซในการเคลือบและโครงสร้างของการเคลือบ ปัจจัยทั้งสองนี้สามารถเปลี่ยนแปลงได้โดยการเปลี่ยนพารามิเตอร์การสะสม

ก่อนที่จะมีการสะสมชิ้นส่วนจะถูกทำความสะอาดเพื่อให้พื้นผิวปราศจากฝุ่นหรือสิ่งสกปรกทางเคมี เมื่อกระบวนการเคลือบได้เริ่มต้นพารามิเตอร์กระบวนการที่เกี่ยวข้องทั้งหมดจะได้รับการตรวจสอบและควบคุมอย่างต่อเนื่องโดยระบบควบคุมคอมพิวเตอร์อัตโนมัติ

•วัสดุพื้นผิว: แก้ว, โลหะ (เหล็กกล้าคาร์บอน, สแตนเลส, ทองเหลือง), เซรามิก, พลาสติก, เครื่องประดับ

•ประเภทโครงสร้าง: โครงสร้างแนวตั้ง #304 สแตนเลส

•ฟิล์มเคลือบผิว: ฟิล์มโลหะอเนกประสงค์, ฟิล์มคอมโพสิต, ฟิล์มนำไฟฟ้าแบบโปร่งใส, ฟิล์มที่เพิ่มขึ้นสะท้อนแสง, ฟิล์มป้องกันแม่เหล็กไฟฟ้า, ฟิล์มตกแต่ง

•สีฟิล์ม: หลายสี, ปืนสีดำ, สีทองไทเทเนียม, สีทองกุหลาบ, สีสแตนเลส, สีม่วง, สีดำเข้ม, สีน้ำเงินเข้มและสีอื่น ๆ

•ประเภทภาพยนตร์: TIN, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN และ DLC

•วัสดุสิ้นเปลืองในการผลิต: ไทเทเนียม, โครเมียม, เซอร์โคเนียม, เหล็ก, เป้าหมายโลหะผสม; เป้าหมายระนาบเป้าหมายทรงกระบอกเป้าหมายคู่ตรงข้ามเป้าหมาย

แบ่งปัน: