เมนูเว็บ

การค้นหาผลิตภัณฑ์

ภาษา

แบ่งปัน

ข่าว

บ้าน / ข่าว / วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

หมวดหมู่ข่าว

หมวดหมู่ผลิตภัณฑ์

โพสต์ล่าสุด

ข่าว
Aug 23,2019 โพสต์โดยผู้ดูแลระบบ

วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

วิธีการทั่วไปของเทคโนโลยี PVD

การชุบไอออนอาร์ค

เทคโนโลยี Cathodic ARC ใช้ในการสะสมวัสดุฟิล์มบาง ๆ โดยการทำให้เป็นไอออนวัสดุเป้าหมายในสถานะไอออนิกภายใต้สภาวะสูญญากาศที่มีแรงดันไฟฟ้าต่ำและกระแสสูง วัสดุมีอัตราการแตกตัวเป็นไอออนที่สูงขึ้นและประสิทธิภาพของฟิล์มที่ดีขึ้น ซัพพลายเออร์เครื่องเคลือบพลาสมาจีน

แบ่งปัน:

การให้คำปรึกษาด้านผลิตภัณฑ์

ที่อยู่อีเมลของคุณจะไม่ถูกเผยแพร่ ฟิลด์ที่ต้องการจะถูกทำเครื่องหมาย -

สินค้าที่เกี่ยวข้อง