ขั้นตอนการทำความสะอาดชิ้นงานก่อนที่จะเคลือบในเครื่องเคลือบสูญญากาศ

เพื่อปรับปรุงการยึดเกาะและความเรียบของฟิล์มชุบบนพื้นผิวของสารตั้งต้นเช่นเดียวกับความกะทัดรัดของฟิล์มก่อนที่พื้นผิวจะถูกแขวนไว้ในเครื่องเคลือบสูญญากาศขั้นตอนการทำความสะอาดเบื้องต้นจะต้องดำเนินการเพื่อกำจัดคราบน้ำมันคราบสกปรก

1. การทำความสะอาดเครื่องทำความร้อนสูญญากาศ

ชิ้นงานถูกทำให้ร้อนภายใต้ความดันปกติหรือสูญญากาศ ส่งเสริมการระเหยของสิ่งสกปรกที่ผันผวนบนพื้นผิวเพื่อให้บรรลุวัตถุประสงค์ในการทำความสะอาด ผลการทำความสะอาดของวิธีนี้เกี่ยวข้องกับความดันโดยรอบของชิ้นงานความยาวของเวลาการเก็บรักษาในสุญญากาศอุณหภูมิความร้อนชนิดของสารปนเปื้อนและวัสดุของชิ้นงาน หลักการคือการให้ความร้อนกับชิ้นงาน ส่งเสริมการลดลงของโมเลกุลของน้ำและโมเลกุลไฮโดรคาร์บอนต่างๆที่ดูดซับบนพื้นผิว ระดับของการเพิ่มประสิทธิภาพการดูดซับขึ้นอยู่กับอุณหภูมิ ภายใต้สุญญากาศสูงเป็นพิเศษเพื่อให้ได้พื้นผิวที่สะอาดแบบอะตอมอุณหภูมิความร้อนจะต้องสูงกว่า 450 องศา วิธีการทำความสะอาดความร้อนนั้นมีประสิทธิภาพโดยเฉพาะ แต่บางครั้งวิธีการนี้อาจมีผลข้างเคียง อันเป็นผลมาจากการให้ความร้อนอาจเกิดขึ้นได้ว่าไฮโดรคาร์บอนบางตัวรวมกันเป็น agglomerates ที่มีขนาดใหญ่ขึ้นและในเวลาเดียวกันก็ย่อยสลายเป็นคาร์บอนตกค้าง

2. การทำความสะอาดการฉายรังสีอัลตราไวโอเลต

ใช้รังสี UV เพื่อสลายไฮโดรคาร์บอนบนพื้นผิว ตัวอย่างเช่นการสัมผัสกับอากาศเป็นเวลา 15 ชั่วโมงทำให้พื้นผิวแก้วสะอาด หากพื้นผิวที่ทำความสะอาดล่วงหน้าถูกวางไว้ในแหล่ง UV ที่สร้างโอโซน สามารถสร้างพื้นผิวที่สะอาดได้ในไม่กี่นาที (กระบวนการสะอาด) สิ่งนี้บ่งชี้ว่าการปรากฏตัวของโอโซนเพิ่มอัตราการทำความสะอาด กลไกการทำความสะอาดคือ: ภายใต้การฉายรังสีอัลตราไวโอเลตโมเลกุลของสิ่งสกปรกตื่นเต้นและแยกออกจากกันและการสร้างและการมีอยู่ของโอโซนทำให้เกิดออกซิเจนอะตอมที่ใช้งานอยู่สูง โมเลกุลสกปรกที่ตื่นเต้นและอนุมูลอิสระที่เกิดจากการแยกตัวของสิ่งสกปรกมีปฏิกิริยากับออกซิเจนอะตอม โมเลกุลที่ง่ายขึ้นและผันผวนมากขึ้นเกิดขึ้น เช่น H2O3, CO2 และ N2 อัตราการเกิดปฏิกิริยาเพิ่มขึ้นตามอุณหภูมิที่เพิ่มขึ้น

3. การทำความสะอาดคายประจุ

วิธีการทำความสะอาดนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในการทำความสะอาดและ degassing ระบบสูญญากาศสูงและระบบสูญญากาศสูงเป็นพิเศษ ใช้โดยเฉพาะอย่างยิ่งในเครื่องเคลือบสูญญากาศ ใช้ลวดร้อนหรืออิเล็กโทรดเป็นแหล่งอิเล็กตรอน การใช้อคติเชิงลบกับพื้นผิวเพื่อทำความสะอาดสามารถทำให้เกิดการสลายก๊าซโดยการทิ้งระเบิดไอออนและการกำจัดไฮโดรคาร์บอนบางชนิด เอฟเฟกต์การทำความสะอาดขึ้นอยู่กับวัสดุอิเล็กโทรดเรขาคณิตและความสัมพันธ์กับพื้นผิว นั่นคือมันขึ้นอยู่กับจำนวนไอออนและพลังงานไอออนต่อพื้นที่ผิว ดังนั้นจึงขึ้นอยู่กับพลังงานไฟฟ้าที่มีอยู่ ห้องสูญญากาศนั้นเต็มไปด้วยก๊าซเฉื่อย (โดยทั่วไปคือก๊าซ AR) ที่ความดันบางส่วนที่เหมาะสม การทำความสะอาดสามารถทำได้โดยการทิ้งระเบิดไอออนโดยการปล่อยแสงที่แรงดันไฟฟ้าต่ำระหว่างอิเล็กโทรดที่เหมาะสมสองตัว ในวิธีนี้ ก๊าซเฉื่อยนั้นถูกทำให้เป็นไอออนและทิ้งระเบิดผนังด้านในของห้องสูญญากาศชิ้นส่วนโครงสร้างอื่น ๆ ในห้องสูญญากาศและสารตั้งต้นที่จะชุบซึ่งสามารถทำให้ระบบสูญญากาศได้รับการยกเว้นจากการอบอุณหภูมิสูง ผลการทำความสะอาดที่ดีขึ้นสำหรับไฮโดรคาร์บอนบางตัวสามารถรับได้หากเพิ่มออกซิเจนลงในก๊าซที่มีประจุ เนื่องจากออกซิเจนสามารถออกซิไดซ์ไฮโดรคาร์บอนบางชนิดเพื่อสร้างก๊าซระเหยที่ถูกกำจัดออกได้ง่ายโดยระบบสูญญากาศ ส่วนประกอบหลักของสิ่งสกปรกบนพื้นผิวของสแตนเลสสูงสูญญากาศและภาชนะสูญญากาศสูงเป็นพิเศษคือคาร์บอนและไฮโดรคาร์บอน โดยทั่วไปคาร์บอนในนั้นไม่สามารถระเหยได้เพียงอย่างเดียว หลังจากการทำความสะอาดทางเคมีมีความจำเป็นที่จะต้องแนะนำก๊าซผสม AR หรือ AR O2 สำหรับการทำความสะอาดการปล่อยแสงเพื่อให้สิ่งสกปรกบนพื้นผิวและก๊าซที่ถูกผูกไว้กับพื้นผิวเนื่องจากการกระทำทางเคมีจะถูกลบออก ในการทำความสะอาดการปล่อยแสง พารามิเตอร์ที่สำคัญคือประเภทของแรงดันไฟฟ้าที่ใช้ (AC หรือ DC) ขนาดของแรงดันคายประจุความหนาแน่นปัจจุบันชนิดของก๊าซที่ชาร์จและความดัน ระยะเวลาของการทิ้งระเบิด รูปร่างของขั้วไฟฟ้าและวัสดุและตำแหน่งของชิ้นส่วนที่จะทำความสะอาด ฯลฯ

4. การล้างก๊าซ

(1) การล้างไนโตรเจน

เมื่อไนโตรเจนถูกดูดซับบนพื้นผิวของวัสดุเนื่องจากพลังงานการดูดซับขนาดเล็กเวลาในการเก็บรักษาพื้นผิวจะสั้น แม้ว่ามันจะถูกดูดซับบนผนังของอุปกรณ์มันก็ง่ายที่จะสูบออกไป การใช้คุณสมบัติของไนโตรเจนนี้เพื่อล้างระบบสูญญากาศสามารถทำให้เวลาการสูบน้ำของระบบสั้นลงได้อย่างมาก ตัวอย่างเช่นก่อนที่เครื่องเคลือบสูญญากาศจะถูกใส่เข้าไปในชั้นบรรยากาศให้เติมห้องสุญญากาศด้วยไนโตรเจนแห้งเพื่อล้างมันแล้วเติมลงในบรรยากาศเวลาสูบน้ำของวงจรการสูบน้ำครั้งต่อไปสามารถทำให้สั้นลงได้เกือบครึ่งหนึ่ง ผนังห้องสูญญากาศ เนื่องจากไซต์การดูดซับได้รับการแก้ไขจึงเต็มไปด้วยโมเลกุลไนโตรเจนก่อนและมีโมเลกุลของน้ำน้อยมากที่ดูดซับดังนั้นจึงทำให้เวลาการสูบฉีดสั้นลง หากระบบถูกปนเปื้อนโดยการสาดน้ำมันของปั๊มการแพร่กระจายวิธีการล้างไนโตรเจนยังสามารถใช้ในการทำความสะอาดระบบที่ปนเปื้อน โดยทั่วไปในขณะที่การอบและให้ความร้อนในระบบการล้างระบบด้วยก๊าซไนโตรเจนสามารถกำจัดมลพิษทางน้ำมันได้

(2) การล้างก๊าซปฏิกิริยาปฏิกิริยา

วิธีนี้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการซักภายใน (กำจัดการปนเปื้อนของไฮโดรคาร์บอน) ของเครื่องเคลือบสแตนเลสสตีลสูงพิเศษขนาดใหญ่ โดยปกติแล้วสำหรับห้องสูญญากาศและส่วนประกอบสูญญากาศของระบบสูญญากาศสูงพิเศษบางอย่างเพื่อให้ได้พื้นผิวที่สะอาดเป็นอะตอมวิธีมาตรฐานในการกำจัดการปนเปื้อนของพื้นผิวคือการทำความสะอาดทางเคมี วิธีการทำความสะอาดและ degassing ที่อธิบายไว้ข้างต้นมักใช้กันก่อนและระหว่างการประกอบระบบสูญญากาศ หลังจากติดตั้งระบบสูญญากาศ (หรือหลังจากระบบทำงาน) เนื่องจากส่วนประกอบต่าง ๆ ในระบบสูญญากาศได้รับการแก้ไขจึงเป็นเรื่องยากที่จะ degas ส่วนประกอบต่าง ๆ ในระบบสูญญากาศ เมื่อระบบ (โดยบังเอิญ) ปนเปื้อน (ส่วนใหญ่เป็นจำนวนอะตอมขนาดใหญ่) โมเลกุลเช่นการปนเปื้อนของไฮโดรคาร์บอน) มักจะถูกรื้อถอนและประมวลผลใหม่ก่อนการติดตั้ง ด้วยกระบวนการก๊าซปฏิกิริยาสามารถทำการ degassing ออนไลน์ในแหล่งกำเนิดได้ กำจัดมลพิษของไฮโดรคาร์บอนในห้องสุญญากาศสแตนเลสได้อย่างมีประสิทธิภาพ กลไกการทำความสะอาด: ในระบบก๊าซออกซิไดซ์ (O2, N0) และการลดก๊าซ (H2, N H3) ถูกยกมาในระบบเพื่อดำเนินการทำความสะอาดปฏิกิริยาทางเคมีบนพื้นผิวโลหะเพื่อกำจัดมลพิษเพื่อให้ได้พื้นผิวโลหะที่สะอาด อัตราการเกิดออกซิเดชัน/การลดลงของพื้นผิวขึ้นอยู่กับการปนเปื้อนและวัสดุของพื้นผิวโลหะ อัตราการเกิดปฏิกิริยาพื้นผิวถูกควบคุมโดยการปรับความดันและอุณหภูมิของก๊าซปฏิกิริยา สำหรับแต่ละสารตั้งต้นพารามิเตอร์ที่แม่นยำจะถูกกำหนดทดลอง พารามิเตอร์เหล่านี้แตกต่างกันไปสำหรับทิศทางการตกผลึกที่แตกต่างกัน

ก่อตั้งขึ้นในปี 2550 เป็นชื่อก่อนหน้านี้เทคโนโลยี Huahong Vacuum เป็นมืออาชีพ ซัพพลายเออร์เครื่องดูดฝุ่นจีน และ ผู้ผลิตเครื่องดูดฝุ่น รวมถึง แต่ไม่ จำกัด เฉพาะระบบสปัตเตอร์, หน่วยเคลือบแสง, ระบบ metallizers แบทช์, ระบบการสะสมไอทางกายภาพ (PVD), อุปกรณ์สะสมการเคลือบสูญญากาศที่ทนต่อการเคลือบแข็งและสึกหรอ, แก้ว, PE, สารตั้งต้นของพีซี, เครื่องม้วนต่อม้วนสำหรับการเคลือบพื้นผิวที่ยืดหยุ่น เครื่องจักรใช้สำหรับแอพพลิเคชั่นที่หลากหลายที่อธิบายไว้ด้านล่าง (แต่ไม่ จำกัด เพียง) ยานยนต์ตกแต่งการเคลือบอย่างหนักเครื่องมือและการตัดโลหะและการเคลือบฟิล์มบาง ๆ สำหรับอุตสาหกรรมและห้องปฏิบัติการรวมถึงมหาวิทยาลัย Danko Vacuum Technology Company Ltd บริษัท ของเราให้ความสำคัญกับบริการหลังการขายในตลาดทั้งในและต่างประเทศจัดทำแผนการประมวลผลชิ้นส่วนที่ถูกต้องและโซลูชั่นระดับมืออาชีพเพื่อตอบสนองความต้องการของลูกค้า