การประยุกต์ใช้เทคโนโลยีการเคลือบ PVD สูญญากาศในแม่พิมพ์หล่อตาย- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

การประยุกต์ใช้เทคโนโลยีการเคลือบ PVD สูญญากาศในแม่พิมพ์หล่อตาย

ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของพื้นผิวของสูญญากาศ การเคลือบ PVD มีขนาดเล็ก ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของพื้นผิวของวัสดุโลหะขัดเงากับเหล็กโดยทั่วไปประมาณ 0.9 ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของการเคลือบ PVD สูญญากาศกับเหล็กอยู่ระหว่าง 0.01 ถึง 0.6 ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของวัสดุเคลือบ PVD (ALCRN, Altin) โดยทั่วไปคือ 0.4-0.6 ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานต่ำช่วยลดความเสียดทานของพื้นผิวระหว่างแม่พิมพ์เคลือบ PVD สูญญากาศและชิ้นส่วนที่ผ่านการประมวลผลในระหว่างการประมวลผลและคุณภาพพื้นผิวของชิ้นส่วนจะดีกว่าโดยไม่ต้องเคลือบ ชิ้นส่วนที่ผลิตโดยชั้นของแม่พิมพ์

เงื่อนไขการผลิตของแม่พิมพ์หล่อตายนั้นรุนแรง สารละลายโลหะที่อุณหภูมิสูง 600-800 ° C ถูกฉีดภายใต้ความดันสูงและพื้นผิวของแม่พิมพ์ยังคงขยายและหดตัวทำให้อายุการใช้งานระยะสั้นของแม่พิมพ์หล่อแม่พิมพ์ จำเป็นต้องซ่อมแซมและบำรุงรักษา สาเหตุหลักของความล้มเหลวของแม่พิมพ์ที่หล่อเหลาคือรอยแตกการกัดเซาะความหนืดและการเสียรูป

เนื่องจากโพรงแม่พิมพ์ทำงานที่อุณหภูมิสูงการปรับปรุงประสิทธิภาพของแม่พิมพ์หล่อแม่พิมพ์ต้องมีลักษณะดังต่อไปนี้ ในช่วงอายุการใช้งานของแม่พิมพ์ความแม่นยำของพื้นผิวโพรงและปริมาณการเสียรูปจะต้องได้รับการดูแลภายใต้เงื่อนไขการสลับของอุณหภูมิสูงและอุณหภูมิต่ำ ดังนั้นนอกเหนือจากลักษณะของแม่พิมพ์พลาสติกแล้ววัสดุของแม่พิมพ์หล่อที่ตายแล้วควรมีความต้านทานอุณหภูมิสูงที่ยอดเยี่ยมความแข็งความต้านทานการเกิดออกซิเดชันความเสถียรของการแบ่งเบากรี แม่พิมพ์ที่หล่อด้วยการหล่อใช้เทคโนโลยีการประมวลผลของการดับการแบ่งเบาและการขัดซึ่งมีการเพิ่มขึ้นอย่าง จำกัด ในความแข็งของวัสดุเอง ในเวลาเดียวกันเนื่องจากอุณหภูมิในการทำงานอยู่ใกล้หรือสูงกว่าอุณหภูมิการแบ่งเบาผมจึงเป็นเรื่องง่ายที่จะทำให้เกิดการแบ่งเบาของแม่พิมพ์รองเพื่อลดความแข็งของแม่พิมพ์และทำให้แม่พิมพ์เปลี่ยนรูป

การเคลือบ PVD สูญญากาศสามารถแก้ปัญหาที่พบโดยแม่พิมพ์หล่อบางตัว ด้วยการวางชั้นของการเคลือบบนพื้นผิวของแม่พิมพ์การเคลือบประเภทนี้มีลักษณะความหนาสูงและความต้านทานอุณหภูมิสูง การเคลือบ PVD สูญญากาศการเติม TiO2 สามารถปรับปรุงความต้านทานอุณหภูมิสูงได้อย่างมีประสิทธิภาพความแข็งของพื้นผิวและความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชันและการเคลือบ PVD สูญญากาศบนพื้นผิวสามารถต้านทานผลกระทบของของเหลวที่ส่งผลกระทบต่อโลหะ การเคลือบแม่พิมพ์ที่มีการหล่อแบบทั่วไป ได้แก่ Tialn, Alcrn และ Alticrn แนวคิดทั่วไปคือการใช้การเคลือบ PVD สุญญากาศที่แข็งขึ้นเพื่อต้านทานอุณหภูมิสูงที่เกิดจากของเหลวโลหะและการกัดเซาะของแม่พิมพ์

การเคลือบด้านบนล้วนมีความต้านทานอุณหภูมิสูงและค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานที่ดีกับเหล็กต่ำกว่า 0.5 ซึ่งสามารถแก้ปัญหาการเสียรูปที่เกิดจากวัสดุเหนียวและการทำความเย็นอย่างกะทันหันและการให้ความร้อนอย่างกะทันหัน ในเวลาเดียวกันความแข็งของการเคลือบหลายอย่างสูงกว่า HV3000 และความแข็งสามารถรักษาได้อย่างมีประสิทธิภาพที่อุณหภูมิสูงซึ่งสามารถต้านทานการเสียรูปของความเครียดที่เกิดจากของเหลวโลหะอุณหภูมิสูงไปยังแม่พิมพ์

บริษัท เคลือบได้พัฒนาเทคโนโลยีใหม่สำหรับการปรับสภาพการเคลือบ PVD สูญญากาศเพื่อตอบสนองต่อปัญหานี้ เมื่อรวมกับเทคโนโลยีพื้นผิวอื่น ๆ และผลคอมโพสิตของการเคลือบ PVD สุญญากาศมันได้รับผลลัพธ์บางอย่างในการปรับปรุงการติดเชื้อราโลหะเหลวและการแตกร้าวด้วยความร้อน ตัวอย่างเช่น HVAC ได้พัฒนาอุปกรณ์ที่สามารถเสร็จสิ้นการเคลือบ PVD สุญญากาศไนเตรทอ่อนของแม่พิมพ์หล่อแบบตายในเวลาเดียวกันซึ่งแก้ปัญหาของแรงพันธะที่ไม่ดีระหว่างการเคลือบแบบดั้งเดิมและพื้นผิวไนไตรด์และปรับปรุงการใช้แม่พิมพ์ ชีวิต. บริษัท ต่างๆใช้แนวคิดของการเคลือบหนาเพื่อเพิ่มอายุการใช้งานของแม่พิมพ์โดยการสะสมการเคลือบที่มีความหนาเพียงพอ ฉันวิเคราะห์เทคโนโลยีการประมวลผลของการเคลือบแม่พิมพ์หล่อที่นี่